丹麥DME原子力顯微鏡DS95Navi介紹

發布日期：2022-04-28      瀏覽次數：1930

公司簡介：
DME - Danish Micro Engineering A/S 由 Curt Sander 博士于 1979 年創立，是一家專注于微處理器技術和軟件的工程顧問公司。那時，即將到來的新信息技術正在慢慢影響DME的日常生活。許多丹麥公司很早就認識到了微處理器技術的可能性，DME 幫助丹麥公司從經典（主要是模擬）電子技術過渡到微處理器技術，并成為該領域重要的顧問公司之一。丹麥微處理器技術的這一悠久傳統至今仍可見一斑。在 PC 的擴展方面，丹麥在歐洲，在二。
在此背景下，1987 年底，DME 開始開發臺 SPM 顯微鏡，不久之后，該公司交付了臺 TunnelSCope® 系列儀器，該系列在 1990 年代初被 RasterSCope 取代， DualSCope™ 系列。此時，DME 從一家咨詢公司轉變為一家主要專注于掃描探針顯微鏡的制造公司。RasterSCope 和 DualSCope 產品系列正在穩步進一步開發和補充，在過去 20 年中一直是 DME 的主要業務。因此，DME 是市場上的 AFM、STM 和 SNOM 設備制造商之一。忠實于DME的起源，DME 將軟件作為主要開發項目之一。
除了標準產品，DME 還對開發各種新產品感興趣。尤其是在掃描探針技術方面，通過DME的經驗和專業知識，DME 可以顯示出非常短的新產品開發時間 - 與其他制造商標準產品的交付時間相當的開發時間。
2015 年 7 月，DME 被 Semilab Zrt 公司收購，還是和以前一樣繼續生產 SPM。

產品簡介：
DME原子力顯微鏡即使從AFM移去樣品，DME原子力顯微鏡Navigator 220TM仍能確保再次觀察到同一個地方。基于參考結構，系統能找到精度在250 nm之內的感興趣區域。DME原子力顯微鏡整個定位過程是全自動和高穩定性，從而完善了長期和短期測試分析一個示例的多個結構特點。DME原子力顯微鏡其主要應用領域是光刻技術中質量控制，納米壓痕和多元工藝分析，例如材料表面工程，納米管，納米顆粒，點和薄層/膜的生長等等。
樣品臺移動范圍：180nm*180nm
樣品尺寸：直徑<15mm，厚度<5mm
定位檢測噪聲：X-Y＜0.15nm RMS ,Z=35pm

技術參數：
掃描體積：50×50×5mm（DS95-50）或200×200×15mm（DS95-200）

- XYZ方向探針移動量：于樣本大小！ （AFM重要的通用準則）
- 的機械穩定性（在Z方向的原子步進分辨率0.06 nm的有效值在HOPG）
- 的掃描速率30Hz
- 在Z方向的硬件線性掃描運動
- 在Z方向的噪音水平<0.05 nm的有效值
- 自我調節激光/懸臂偏轉系統
- 在AC模式幅度設置<1納米
- 對懸臂式綜合光軸
- 即插即用懸臂式，速度，目前市場上的懸臂交流！ （*）
- 由壓電馬達高度敏感的方法步驟（*）
- SPM模式：交流，包括振幅成像和相位成像特區，包括LFM, MFM, KPFM, EFM, SCM, STM

產品型號：
DME原子力顯微鏡Igloo
DME原子力顯微鏡Compact Granite
DME原子力顯微鏡Proberstation 150
DME原子力顯微鏡Navigator 220

DME原子力顯微鏡的產品特點：
1、DME原子力顯微鏡DS95 SPM掃描儀的緊湊設計，了其出色的穩定性和掃描速率。
2、*的即插即用懸臂切換功能確保儀器可以快捷和的操作。
3、一個集成的光軸為SPM掃描儀在尋找和定位目標過程中提供總體視覺控制。
4、DME原子力顯微鏡S95 SPM掃描儀作為基本設備提供給所有常用和*的SPM型號。
5、集成電子元件的掃描頭了在電性SPM模式下的噪音值。
6、DS95多元底座允許DS95 SPM掃描儀，納米壓痕儀和光學顯微鏡等安裝在DME底座平臺上。

產品應用：
DME原子力顯微鏡其主要應用領域是光刻技術中質量控制，納米壓痕和多元工藝分析，例如材料表面工程，納米管，納米顆粒，點和薄層/膜的生長等。

 

產品系列：

DME顯微鏡

DME掃描儀

DME測量控制器

DME微電子