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      德國RELYON等離子體設(shè)備piezobrush PZ3-i介紹

    • 發(fā)布日期:2022-04-27      瀏覽次數(shù):2220
      • 產(chǎn)品介紹:
        RELYON Plasma 公司為手工裝配以及流水線生產(chǎn)提供廣泛專業(yè)的等離子體加工設(shè)備和系統(tǒng)組件。在空氣或者其他工作氣體中放電所產(chǎn)生的常壓等離子體具有的性質(zhì),使其可以對各種材料表面進(jìn)行進(jìn)一步的加工處理。這種等離子體可以產(chǎn)生大量但壽命較短的化學(xué)物質(zhì)。這些化學(xué)物質(zhì)可以對各種材料表面進(jìn)行殺菌、精細(xì)清潔、加工活化以及對黏合、噴漆或者印刷進(jìn)行前期預(yù)處理。

        等離子體的應(yīng)用:
        材料、等離子體活化、使用我們的等離子體系統(tǒng)粘合、等離子體清洗、印刷、等離子體預(yù)處理-上漆

        RELYON 等離子體設(shè)備系統(tǒng)特點(diǎn):
        材料表面活化以及增強(qiáng)潤濕性
        金屬、玻璃和塑料表面的清潔
        材料噴涂前的預(yù)處理
        基于等離子體技術(shù)的黏合噴涂覆蓋工藝
        數(shù)字和3D打印的優(yōu)化處理
        改進(jìn)密封處理加工工藝
        使用等離子體技術(shù)減少金屬表面氧化物
        提高食品加工處理的質(zhì)量和延長保質(zhì)期
        結(jié)構(gòu)組織以及材料表面的
        殺菌和消除異味

        產(chǎn)品系列:
        RELYON等離子體設(shè)備PZ3
        RELYON等離子體設(shè)備PZ3-1
        RELYON等離子體設(shè)備PZ2
        RELYON等離子體設(shè)備PZ2-1

        技術(shù)參數(shù):

        電源電壓 24 V DC

        功率消耗 最大18 W

        規(guī)格形式 帶氣體連接的集成單元

        重量 380 g

        Plasmatemperatur < 50°C

        處理間距 2 10 mm

        處理寬度 5 29 mm (CDA)

        5 50 mm ()


        等離子體的概念:
        關(guān)于等離子體,是物質(zhì)除氣態(tài)、液態(tài)以及固態(tài)以外的第四種形態(tài)。氣態(tài)物質(zhì)通過獲得大量能量,以致于過臨界數(shù)量的電子脫離原子核,并使氣態(tài)物質(zhì)電離從而轉(zhuǎn)化為第四種形態(tài)等離子體。大多數(shù)情況下,我們通過外加高壓電源的方式提供轉(zhuǎn)化所需的能量。所產(chǎn)生的等離子體是一種高能級但又不穩(wěn)定的物質(zhì)。
        盡管科學(xué)家早前較少提及等離子體,但自古以來等離子體現(xiàn)象就在我們生活中扮演了重要的角色。閃電產(chǎn)生了火,而美麗的光是我們的祖先有了更深的認(rèn)識。總之,中大多數(shù)的物質(zhì)都是由等離子體構(gòu)成,因?yàn)榇蠖鄶?shù)的星球都是由等離子體組成的。
        等離子體物理實(shí)驗(yàn)的歷史始于1700年的真空玻璃球體中的光電照明實(shí)驗(yàn)。富蘭克林于1747年發(fā)明了避雷針,法拉第次提出了關(guān)于物質(zhì)第四形態(tài)的假設(shè):即氣態(tài)、液態(tài)、固態(tài)以及物質(zhì)的第四形態(tài)等離子體形態(tài)。西門子于1857年發(fā)明的通過電子放電從而產(chǎn)生臭氧的臭氧發(fā)生器是等離子體技術(shù)的首應(yīng)用。
        的照明技術(shù)(例如熒光燈管、玻璃激光器以及等離子顯示器)和等離子體化學(xué)(例如金剛石涂層的制造以及等離子體焊接技術(shù))都是基于對等離子形態(tài)的技術(shù)應(yīng)用。如今,這些產(chǎn)品都是我們?nèi)粘I钪斜氐摹5入x子體技術(shù)從根本上改變了工業(yè)制造和衛(wèi)生等領(lǐng)域的發(fā)展。
        我們RELYON Plasma公司擁有數(shù)十年研發(fā)以及制造等離子體設(shè)備系統(tǒng)的專業(yè)經(jīng)驗(yàn)。

        常壓等離子體的工作原理:
        由空氣后者其他氣體放電所產(chǎn)生的常壓等離子體具有的表面材料處理特性。這類等離子體可以產(chǎn)生大量非常活躍但又壽命較短的化學(xué)物質(zhì)。此類化學(xué)物質(zhì)可以對各種各樣的材料進(jìn)行表面殺菌、清潔以及活化處理加工,并為后續(xù)的黏合、噴漆或者印刷做準(zhǔn)備。等離子體對材料表面進(jìn)行預(yù)處理可以顯著提高后續(xù)加工步驟的以及加工質(zhì)量。
        這種非常的等離子體是一種冷等離子體,它不會讓材料表面過熱。這種材料表面處理只會影響到表面以下幾納米的深度,并且不會改變材料的光學(xué)特性。處理并不會產(chǎn)生有的化學(xué)物質(zhì),并且由等離子體所產(chǎn)生的活躍化學(xué)物質(zhì)會在數(shù)毫秒的時(shí)間內(nèi)自我分解。這使得等離子體表面加工處理工藝并且。
        具有化學(xué)的冷常壓等離子體在接觸處理過的材料表面之后,會觸發(fā)大量的物理化學(xué)反應(yīng)。主要的反應(yīng)物是由等離子體產(chǎn)生的大量、短壽命的中性化學(xué)物質(zhì)。當(dāng)電子放電接觸到經(jīng)過處理的材料表面后,也同樣會被真空紫外線照射以及被高能電子離子轟擊。盡管帶電粒子的數(shù)量很少,但它們的卻大大增強(qiáng)了等離子體的作用效果。下列方式有助于通過等離子體處理而提高印刷前材料表面的附著力:
        使用等離子體清潔材料表面:等離子體破壞了重分子中的鍵,并且產(chǎn)生了更輕更易揮發(fā)的分子從而從材料表面揮發(fā)。另外,化學(xué)物質(zhì)氧化污染物并形成二氧化碳和水蒸氣。由于經(jīng)過等離子體處理,污染物會被轉(zhuǎn)化成水蒸氣,所以在材料表面不會留下任何殘留并且可以保持精細(xì)清潔的狀態(tài)。
        使用等離子體還原金屬氧化物:等離子體放電,并在氮混合氣中點(diǎn)燃(包含5%的氫氣和95%的氮?dú)猓瑫a(chǎn)生大量的活性氫。通過與氧化的金屬表面接觸,它們會與金屬氧化物發(fā)生反應(yīng),并將其還原成金屬原子和水蒸氣。
        使用等離子體增強(qiáng)材料表面強(qiáng)度:隨著等離子體加工處理強(qiáng)度的提升,可以去除材料表面原先納米級的低強(qiáng)度小分子涂層。材料表面聚合物斷裂的化學(xué)鍵將重新組合在一起并形成更加堅(jiān)固的表面涂層。
        使用等離子體促進(jìn)聚合物分子的裂解和狀態(tài)改變:隨著等離子體加工處理強(qiáng)度的進(jìn)一步提升,會使得材料表面涂層的晶體結(jié)構(gòu)發(fā)生改變。同時(shí)使得黏合劑更好的擴(kuò)散并獲得更好的黏合強(qiáng)度。除此之外,等離子體還將其鋒利的尾端與待處理的材料表面進(jìn)行接觸從而破壞材料聚合物的分子結(jié)構(gòu)。這就使得黏合劑的黏合強(qiáng)度進(jìn)一步提高。
        使用等離子體沉積材料化學(xué)官能團(tuán)并增強(qiáng)材料潤濕性:通過與聚合物分子發(fā)生反應(yīng),等離子體物質(zhì)在清潔后的材料表面沉積了大量性OH-和ON-基團(tuán),從而顯著增加了材料表面的表面能以及潤濕性。結(jié)果就是其后噴涂的涂料更有效的浸潤了材料表面,并且由于毛細(xì)作用更好的填充了微分子結(jié)構(gòu)。
        使用等離子體使材料表面微觀上粗糙化:與基座材料直接接觸的放電,特別是例如金屬基座上的放電電弧(比如用作陰極),會對基座表面材料造成微米級的侵蝕。由此產(chǎn)生的微結(jié)構(gòu)被黏合劑所填充,從而提高了與基座材料之間的黏合程度。

         

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